電子ドープ高温超伝導体の分子線エピタキシー合成
のか?といった基本的な問題を明らかにする上で、電子ドープ高温超伝導体の高品質単結晶薄膜の作製及び新材料探索は重要である。分子線エピタキシー法(MBE法)は、低温合成やエピタキシー効果によりバルク合成では不可能な非平衡
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report00/J/report08.html
MBE法による新鉛系銅酸化物高温超伝導体の合成
:Pb1201は、構成元素に蒸発しやすい鉛酸化物を含む。MBE法は、バルク合成法よりはるかに低い温度での成長が可能である。今回は、500℃の低温で薄膜成長させることにより、鉛酸化物の蒸発を抑制した。(2
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report99/J/busshitsu/busshitsu2.htm
NTT物性科学基礎研究所 上席特別研究員 山本秀樹
しない新物質の薄膜合成の世界です。我々は、NTT独自の組成制御技術を活かした分子線エピタキシー法(MBE法)を用いて、主に複合酸化物材料に対してそのような世界を切り拓いてきました。最近では、機械学習の手法
https://www.rd.ntt/brl/people/hideki/
MBE薄膜の精密アニールによる母物質超伝導体RE2CuO4の合成
MBE薄膜の精密アニールによる母物質超伝導体RE2CuO4の合成 MBE薄膜の精密アニールによる母物質超伝導体RE2CuO4の合成 山本秀樹 松本理* 山神圭太郎 内藤方夫* 機能物質科学研究部
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report09/report05.html
D04-j.pdf
#D04 #カーボンニュートラル #健康・ウェルビーイング 高機能性を持つ高分子薄膜の蒸着技術による医療・半導体用新被膜材の合成を実現します 医療機器や半導体薄膜用の新機能性材料開発 従来デバ
https://www.rd.ntt/forum/2025/doc/D04-j.pdf
no_04.pdf
04 ドーピングなしの母物質超伝導体 ~ 薄膜合成で高温超伝導の素顔に迫る ~ 山本 秀樹 hideki@will.brl.ntt.co.jp クロッケンバーガー 賢治 yoshi@will
https://www.rd.ntt/brl/event/splaza2010/poster/no_04.pdf
最高の強磁性転移温度を持つ新絶縁物質Sr3OsO6を創製|NTT物性科学基礎研究所 | NTT R&D Website
に適した単結晶薄膜※4の形で合成されました。そのため、室温~250℃程度の実用的な温度で安定に動作する、磁気ランダムアクセスメモリや磁気センサといった高機能磁気素子の開発につながるものと期待されます。 本
https://www.rd.ntt/brl/latesttopics/2019/02/latest_topics_201902121131.html
予想や通説と異なる実験結果が出たときこそがチャンス─ワクワク感で世界をけん引|NTT R&D Website
大きな目標から入りますと、世界的に電力消費量が増大している中で、将来的な①グリーン発電・蓄電へのシフト、②送給電・配線のロスレス化、③デバイス等のさらなる低消費電力化等への貢献をめざして、『薄膜合成法
https://www.rd.ntt/research/JN202010_7173.html
唯一無二の物質創製技術とともに――新高温超伝導体の薄膜創製と超伝導機構解明をめざす | NTT R&D Website
最高水準の薄膜合成技術を用いて、新たな超伝導体の創製に挑み続けています。未踏領域にある高温超伝導体の創製と、その超伝導発現機構解明に迫る研究は将来的にカーボンニュートラルに資するものと期待
https://www.rd.ntt/research/JN202607_39776.html
Microsoft PowerPoint - SP2010Digest_ms_ja_04.pptx
Microsoft PowerPoint - SP2010Digest_ms_ja_04.pptx ドーピングなしの母物質超伝導体 ~ 薄膜合成で高温超伝導の素顔に迫る ~ 山本 秀樹
https://www.rd.ntt/brl/group_introduction/shitsumaku-g/topics/yamamoto_j.pdf
no_06.pdf
いガスを用いる必要 がありました。 私たちはスパッタリング法やスピンコート法で堆 積した固体薄膜を原料に用いる簡単で安全な 合成方法を開発しました。 グラフェンと窒化ホウ素を重ね合わせることに よって高
https://www.rd.ntt/brl/event/sp2012/poster/no_06.pdf
機能物質科学の研究概要
できない薄膜を合成することができます。今回合成した新材料は、銅―酸素面が1枚のため、超伝導転移温度は、約40 Kですが、面数の多い材料を合成できれば、120 K程度の転移温度も期待できます。 最後のトピ
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report99/J/busshitsu/overview.htm
Microsoft PowerPoint - sciencePlaza2008_template_A4_digest(物性研)_4_改.ppt
です。しかしながら、発見から20余年が経過した今も、 何故、銅酸化物で高いTcが得られるかについては、十分に理解 されていません。本研究では、薄膜合成手法を用いた新しい超 伝導体創製を通じて、高温超伝導の発現機構解明に迫り
https://www.rd.ntt/brl/event/splaza2008/poster/poster_4.pdf
無限層構造超伝導体(Sr,La)CuO2 高品質薄膜のMBE 成長
である。しかしながら、そのバルク試料の作製には一般に高圧合成を要し、純良試料・単結晶の作製が困難である。薄膜合成であれば無限層構造自体は比較的容易に安定化できるが、良好な超伝導特性を示す試料の作製は、やはり難しい。NTT
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report11/report04.html
As-grown Pr2CuO4超伝導薄膜の合成
As-grown Pr2CuO4超伝導薄膜の合成 As-grown Pr2CuO4超伝導薄膜の合成 Yoshiharu Krockenberger1 堀尾眞史1,2 池田 愛1 入江 宏3 藤森
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report15/report06J.html
機能物質科学の研究概要
処理機構を開拓する。 超伝導体薄膜研究グループ 分子線エピタキシ(MBE)成長技術を用いて、最高品質の新高温超伝導材料を合成しその謎の解明を目指す。超伝導体薄膜を利用したマイクロ波デバイスの研究も進め
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report02/J/report06.html
極薄六方晶BNの合成とトンネル素子への応用
を、層数を制御して合成する技術は大切である。本稿では、サファイア基板に保持されたヘテロエピタキシャルCo薄膜上での大面積の単層h-BNの成長を報告する。 h-BN成長は、アンモニアボラン(NH3-BH3
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report13/report06J.html
Microsoft PowerPoint - SP2014_digest_N05_MH.pptx
Microsoft PowerPoint - SP2014_digest_N05_MH.pptx N05 光る原子層膜の簡便な作り方 ~金属極薄膜の硫化によるグラフェン状金属硫化物の合成~ NTT
https://www.rd.ntt/brl/event/sp2014/poster/files/n05.pdf
独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT R&D Website
独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新物性の発現に挑む | NTT R&D Website NTT R&D Website リサーチ&アクティビティ 独自の薄膜合成法で新高温超伝導体の創製や新
https://www.rd.ntt/research/JN202309_23098.html
酸化物および窒化物材料
の研究に大きく貢献して来ています。我々の独自技術を結集した酸化物MBEシステムにより、既存物質の高品質薄膜や人工超格子の作製、さらには新奇物質の合成・発見などの成果を創出してきました。近年では、酸化物薄膜
https://www.rd.ntt/brl/group_introduction/shitsuko-g/oxide_ja.html