原子層物質のCVD成長技術|NTT R&D WebSite
Dichalcogenides)や、半導体デバイスに用いられるSi(シリコン)やGe(ゲルマニウム)の原子が層状に配列したシリセンやゲルマネンなど数多くの原子層物質が存在します。例えば、TMDCは単層が原子3個分の厚みの物質
https://www.rd.ntt/research/JN20190825_h.html
Microsoft PowerPoint - SP2014_digest_N05_MH.pptx
の層状金属硫 化物が注目されています。これらの材料は通常間接遷移 型半導体ですが、一原子層にすると直接遷移型になると いう面白い性質があります。 私たちは、蒸着法で形成した金属薄膜の硫化による金属硫 化物
https://www.rd.ntt/brl/event/sp2014/poster/files/n05.pdf
原子1層からなる原子層物質におけるキャリアダイナミクスの学理構築と機能開拓に挑む | NTT R&D Website
ンジスタがあります。光トランジスタに限らず、現在の情報通信で利用されている能動的デバイスのほとんどは半導体がベースになっています。一方、原子1層からなる原子層物質は、2004年のグラフェン作製以来、新たな物質も登場
https://www.rd.ntt/research/JN202505_33801.html
特別研究員
を持つ半導体レーザの液相成長の研究、流量変調エピタキシ法の開発とそれによる原子層構造の研究、光を用いたMOVPE成長表面のその場観察の研究および最近は窒化物半導体MOVPE成長の研究に従事。現在、NTT
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report98/J/tokubetsu.html
no_03.pdf
にはInGaNが、赤色 にはGaAs系の半導体が用いられてきました。InGaN のIn組成を増やして赤色発光を得られれば、毒性の ない材料のみで三原色発光が実現できて理想的で すが、良質なInGaN発光層を作製
https://www.rd.ntt/brl/event/sp2012/poster/no_03.pdf
半導体2次元系におけるプラズモン研究の概要と展望 | NTT R&D Website
ズモンは、ロスが大きい、制御性が乏しいといった問題があり、応用範囲が限定されています。一方、私たちは半導体積層構造中に2次元的に閉じ込められた電子層や炭素の1原子層であるグラフェンにおけるプラズモンに注目して研究
https://www.rd.ntt/research/JN202303_21252.html
ラップゲート構造を有するIn0.75Ga0.25As 量子ポイントコンタクト
として動作することを意味し、半導体スピントロニクスへの応用が期待される。また、高In組成InGaAsは、金属や超伝導体に対しショットキー障壁を形成しない。そのため、界面抵抗の少ない良質な超伝導・半導体接合
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report11/report22.html
遷移金属ダイカルコゲナイド薄膜のMBE成長
から金属まで様々な性質を示す物質が存在することが知られている。この中で、我々は半導体のMoSe2に注目して研究を進めている。 本研究では、GaAs(111)B基板上に、原子層ステップが確認できる平坦
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report14/report02J.html
選択成長MOVPEによる窒素極性GaN (000-1)の核成長および螺旋成長
科学研究部 原子層レベルで全く段差がない窒化物半導体ステップフリー面を用いれば、極めて急峻なヘテロ界面を有する量子素子が実現することが期待される。我々はこれまでに、MOVPE選択成長法を用いて、III族
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report13/report02J.html
電荷制御量子ドットの磁気光学分光
電荷制御量子ドットの磁気光学分光 電荷制御量子ドットの磁気光学分光 眞田治樹 寒川哲臣 後藤秀樹 都倉康弘 鎌田英彦 量子光物性研究部 半導体ナノ構造中のスピンは固体中での量子情報の担い
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report08/report30.html
谷保 芳孝 | NTT R&D Website
. Phys. Lett. 81, 1255 (2002). 技術キーワード 窒化物半導体、原子層半導体、結晶成長、発光デバイス、電子デバイス 関連するコンテンツ
https://www.rd.ntt/organization/researcher/superior/s_030.html
Annual_report_2019_J.pdf
は、砒化ガリウムや窒化ガリウムをはじめとする半導体からグラフェ ンなどの2次元構造物質、酸化物超伝導体・磁性体、導電性高分 子、さらには生体物質などのソフトマテリアルに至り、高品質薄膜成 長技術や、物質
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/annual_report/Annual_report_2019_J.pdf
no_39.pdf
InP系電子デバイス用半導体結晶成長技術 〜原子層レベルの品質制御による超高速トランジスタ〜 NTT フォトニクス 研究所 NTT Photonics Laboratories 連絡先: 杉山弘樹
https://www.rd.ntt/brl/event/splaza2009/poster/no_39.pdf
原子1個の誤差も無い半導体量子ドットの作製に成功|NTT物性科学基礎研究所 | NTT R&D Website
成長法。一原子層レベルの膜厚制御が可能で、単結晶薄膜積層法として半導体分野を支える必須技術の一つ。 ※4 ...走査トンネル顕微鏡(Scanning Tunneling Microscope : STM
https://www.rd.ntt/brl/latesttopics/2014/06/latest_topics_201406300201.html
高指数面上の異方的歪緩和とナノ構造形成
ムアップの半導体ナノテクノロジにおいて、最も重要な技術の一つである。しかし、これらの技術を基にSiナノデバイスを実現するためには、ナノ構造のサイズ・形状・配置を制御する必要がある。ナノ構造形成制御の重要要素の一つ
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report02/J/report05.html
量子固体物性研究グループ|Home
や相関効果に注目し、 それらを半導体や原子層物質のへテロ構造・ナノ構造を用いて生成・制御することで、ばらばらの電子では得られない新しい機能をもった量子デバイスや極限的な量子計測技術を開拓することを目指
https://www.rd.ntt/brl/group_introduction/ryoubutsu-g/index-j.html
ポスター発表 - サイエンスプラザ2009 - NTT物性科学基礎研究所
テラヘルツ波出力用フォトミキサ ~電波と光の間の新しい周波数領域の開拓~ JPEG | PDF 若月 温 / 村本 好史 / 吉田知史 39 InP系電子デバイス用半導体結晶成長技術 ~原子層レベ
https://www.rd.ntt/brl/event/splaza2009/poster.html
高純度半導体における電子の結晶化の観測に成功|NTT物性科学基礎研究所 | NTT R&D Website
高純度半導体における電子の結晶化の観測に成功|NTT物性科学基礎研究所 | NTT R&D Website NTT R&D Website NTT物性科学基礎研究所 最新の研究内容 高純度半導体
https://www.rd.ntt/brl/latesttopics/2014/07/latest_topics_201407210201.html
ゲートオーバラップをもつGate-All-Around InAsナノワイヤFET
* 原田裕一 齊藤志郎 藤原 聡 寒川哲臣* 村木康二 量子電子物性研究部 *量子光物性研究部 結晶成長により得られる半導体ナノワイヤは、次世代ナノデバイスの構成材料として近年注目を集めている。特にInAs
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report13/report18J.html
高次高調波を用いた時間分解光電子分光法によるGaAs表面の超高速ダイナミクス計測
し、原子層オーダの表面プローブ特性とフェムト秒オーダの時間分解能を併せもつ時間分解表面光電子分光への応用を図ってきた[3]。 図1に、我々の構築した超高速表面光電子分光システムの実験配置図を示す。本実験
https://www.rd.ntt/brl/result/activities/file/report12/report25.html